业务介绍

清洗
JEONGWOO N-TECH在半导体和显示器工艺设备中,尽可能减少污染源,提升沉积率,以确保工艺的稳定性。


清洗是什么?
拥有清洗流水线,利用洁净室设备清洗用于半导体及显示器工艺设备的零件。
由此将安装后产生的污染源(particle)降到最低,提供适合量产的高质量产品。
此外,借助Abrasive Blast设备形成产品表面的照度,提升污染物的沉积率,提升工艺的稳定性。
该工艺与Anodizing Coating Line相连接进行,能够生产出更加优质的产品。
工艺Flow

装备、设备
No. | 设备名称 | 设备SIZE |
1 | 脱脂BATH | 1800*900*17350 |
2 | 漂洗BATH | 2000*1100*1750 |
3 | 高压BOOTH #1,2 | 2000*2600*2400H |
4 | ||
5 | 洗涤BATH #1 | 3000*800*1900H |
6 | 高压冲洗BOOTH#1 | 1000*1000*1900H |
7 | 高压冲洗BOOTH | 1000*1000*1900H |
8 | 超声波BATH#1 | 2100*1100*800H |
9 | 大型超声波BATH#2 | 2420*2060*920H |
10 | SHD超声波BATH#3(含Hot di设备) | 2000*1550 |
11 | 大型HOT DI BATH#1 | 1950*19050*900H |
12 | 大型干燥台(移动式) | 2000*1800*1850 |
13 | 抛光机 | 800*1040 |
14 | SHOWER JIG | 600*600*700H |
15 | DI SYSTEM | 2400*1200*1800 |
16 | Clean booth | 3000*2000*2360 |
17 | 真空包装机 | 1045*868*1225 |
18 | AIR干燥台 | 1500*1000*1400 |
19 | 脱脂&超声波BATH#2 | 3000*800*1900H |
20 | 脱脂&超声波BATH#3 | 3000*800D*1900H |
21 | 高压冲洗BOOTH#2 | 1000*1000*1900H |
22 | 高压冲洗BOOTH#3 | 1000*1000*1900H |
23 | BAKE OVEN#1 | 2000*1000*1500H |
24 | 大型 BAKE OVEN#2 | 2260*2200*2270H |
25 | 大型Oven Loading台车 | 1800*1900 |
26 | 大型Oven Loading台车 | 1800*1900 |
27 | BAKE OVEN#3 | 700*650*1200H |
28 | AUTO BEAD BLAST #1号机 | 1450*1700*2400H |
29 | AUTO BEAD BLAST #2号机 | 1450*1700*2400H |
30 | MANUAL BEAD设备 | 1025*1250*2190H |
31 | 缠绕机床#1 | 2100*800*1610 |
32 | 缠绕机床#2 | 2980*1430*1140 |
33 | 缠绕机床#3 | 750*750*450 |
34 | DI SYSTEM | 2400*1200*1800 |
35 | DI SYSTEM | 2400*1200*1800 |